기계연, 반도체 공정용 극저온 칠러 개발

한국기계연구원(원장 류석현)은 2026년 11월 2일 고준석 탄소중립기계연구소 에너지저장연구실장 연구팀이 반도체 식각 공정용 터보-브레이튼 극저온 냉각시스템을 개발했다고 밝혔다. 전자신문이 같은 날 보도했다.

이 칠러는 영하 120도 이하에서 15킬로와트(kW)의 냉각 성능을 구현하며, 가로·세로 1.6m, 높이 2.1m 크기의 산업용 설비로 제작돼 성능시험까지 완료됐다. 터보-브레이튼 사이클은 기존 냉매 기반 방식 대비 친환경성이 높다는 특징이 있다.

반도체 식각 공정에서는 플라즈마 반응 중 고열이 발생하며, 이를 정밀하게 제어하는 냉각 설비의 성능이 공정 수율과 직결된다. 기존 대용량 산업용 칠러는 대부분 해외 제품에 의존해 왔다.

이번 개발은 반도체 공정 환경설비 국산화라는 측면에서 의미가 있다. 연구팀은 친환경성과 대용량 냉각 성능을 동시에 확보했다는 점을 성과로 제시했다.